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真空蒸鍍裝置VE-2013的特點(diǎn)

發(fā)布時(shí)間:2024-04-12 點(diǎn)擊量:368

真空蒸鍍裝置VE-2013的特點(diǎn)

VE-2013是一款簡(jiǎn)單的真空蒸鍍裝置,繼承了VE-2030(我公司制造)的概念。外殼內(nèi)置TMP,實(shí)現(xiàn)緊湊外殼。由于是臺(tái)式機(jī),所以不會(huì)占用太多空間。RP 放置在地板上。
我們使用緊湊的 TMP+RP 排氣系統(tǒng)以低廉的價(jià)格提供清潔、高真空的蒸發(fā)系統(tǒng)。它消除了復(fù)雜的排氣操作,只需觸摸面板開(kāi)關(guān)的ON/OFF控制即可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)。
使用鎢籃可以沉積金、鋁、鉻、銀等。碳蒸鍍采用夾具蒸鍍槍型,使用特殊碳( 
SLC-30 )進(jìn)行蒸鍍。(不能使用φ5mm碳棒。)

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購(gòu)買時(shí),您可以選擇碳?xì)庀喑练e電極或金屬氣相沉積電極??梢赃x擇購(gòu)買額外的電極。

碳蒸發(fā)電極

這是專用的碳蒸發(fā)電極。
它可以在高真空區(qū)域進(jìn)行碳蒸發(fā),從而可以形成具有優(yōu)異膜質(zhì)量和膜強(qiáng)度的碳膜。
附帶的防塵蓋將碳蒸氣沉積的散射范圍降至必要的低限度,從而減輕了清潔的負(fù)擔(dān)。
使用特種碳(SLC-30)作為積碳源。
金屬蒸鍍電極

這是直徑0.5mm鎢籃專用的金屬蒸鍍電極。
可以輕松簡(jiǎn)便地進(jìn)行金、鋁、鉻等的氣相沉積。隨附的防塵蓋可最大限度地減少沉積區(qū)域并減輕清潔負(fù)擔(dān)。

主要產(chǎn)品規(guī)格

物品規(guī)格
電源AC100V(單相100V15A)
設(shè)備尺寸寬428mm,深430mm,高550mm
(設(shè)備重量38kg)
旋轉(zhuǎn)泵(外部)抽速50?/min (G-50DA)
(重量11kg)
渦輪泵(內(nèi)置裝置)排氣速度67?/秒
樣品臺(tái)直徑72毫米
氣相沉積源-樣品臺(tái)距離可調(diào)范圍:0mm 至 140mm



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